使用装置一覧表
分析手法(略名称) | 得られる情報 | |
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元素・分離分析 | プラズマ発光分光分析(ICP-AES) |
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マイクロ波プラズマ質量分析(MIP-MS) |
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原子吸光分析(AAS) |
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蛍光X線分析(XRF) |
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有機元素分析(CHNS/O) |
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イオンクロマトグラフ分析(IC) |
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ガスクロマトグラフ分析(ICP-AES) |
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ゲル浸透クロマトグラフ分析(GPC) |
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組成・構造解析 | 赤外分光分(GPC) |
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紫外・可視分光光度計(UV-VIS) |
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X線回折(XD) |
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ガスクロマトグラフ−質量分析(GC-MS)
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ウエハ加熱脱離-ガスクロマトグラフ/質量分析(WTD-GC/MS) |
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昇温脱離ガス分析(TDS) |
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表面・局所分析 | 電子線マイクロアナリシス(EPMA) |
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オージェ電子分光分析(SAM) |
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X線光電子分光分析(XPS) |
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二次イオン質量分析(SIMS) |
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形態観察・分析 | 走査電子顕微鏡(SEM/EDX) |
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非接触三次元測定 |
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透過電子顕微鏡(TEM) |
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原子間力顕微鏡 (AFM) |
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収束イオンビーム装置(FIB) |
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